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磁控溅射后，古电Cu箔的粗糙和有棱纹的表面被一层均匀分布的细颗粒覆盖（图2a）。力集理数这归因于磁控溅射的高真空和铋的强抗氧化活性。
而在LiAu表面，团加自由电子集中在Li原子周围，Au原子周围的ELF值低至0.2，对Li+的调节作用较弱。图2 超薄锂合金层的设计与制造 ©2022TheAuthors受电子定位调节的锂成长基于上述表征结果的确定，快全本工作使用Bi/Cu箔通过SEM和原位光学显微镜验证了电子定位对锂沉积行为的影响。同时，网生高表面功函数可以有效缓解电解质与锂之间的副反应。
锂金属被认为是最终的负极材料，产管因为其理论比容量为3860mAhg-1，与标准氢电极相比具有极低的氧化还原电位(-3.04V)。与此形成鲜明对比的是，字化转型沉积在Bi/Cu集流体上的Li的表面形态更加平坦和致密。
通过连续电镀Li簇（图3i），内蒙从上往下看，表面局域电子分布广泛，Bi原子周围的ELF值略低。
Bi/Cu箔的极限强度和弹性模量分别为406MPa和62GPa，古电大于Cu箔，表明Bi/Cu集流体更适合工业运输。开放获取可以让全球的科研工作者不用付费订阅期刊即可读到作者的研究，力集理数对于提高作者引用有很大帮助。
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